Lundabaserade Epiluvac har fått sin första order på två Chemical Vapor Deposition (CVD)-system i dubbel konfiguration för ett forskningsinstitut i Polen, Lukasiewicz - Institutet för mikroelektronik och fotonik i Warszawa.
Enligt Epiluvac är institutet en av de främsta forskningsanläggningarna i världen för avancerade halvledare.
CVD-systemen är designade med Epiluvac ER3-reaktorer för 8-tums epitaxiskivor av kiselkarbid (SiC) och galliumnitrid (GaN). De är avsedda att användas inom forskning och utveckling för ny materialteknik.
Roger Nilsson, Epiluvacs CTO, säger:
– Reaktorutvecklingen startade för flera år sedan i samarbete med Linköpings universitet. Under de senaste åren har vi förfinat designen till en helt ny plattform. Från början är den utformad för 8-tumskivor som kräver nya lösningar för att kontrollera temperaturprofilen och gaskoncentrationen över den stora skivan. Den har också den unika funktionen som möjliggör att två eller flera system kan sättas ihop till ett enda WBG-multireaktor-CVD-system. Detta multisystemsupplägg gör det möjligt för användaren att optimera kemin i varje reaktor och därigenom uppnå ett mycket högt utbyte.
Systemen är utrustade med en automatisk robotskivhanterare för båda reaktorerna. För att öka produktionskapaciteten förvärms skivorna och kyls ner utanför reaktorn.
Epiluvac tillhandahåller en nyckelfärdig lösning, inklusive support för att köra i gång systemet med grundläggande epitaxiell tillväxt. Den nya ER3 innehåller också en patenterad funktion där skivans böjning under processen minimeras.
Rolf Elmér, vd för Epiluvac, säger:
– Det finns en enorm potential för försäljning av denna nya plattform till halvledarindustrin. Nya halvledarmaterial med stort bandgap används för att producera mer effektiv kraftelektronik. Sådana enheter används i till exempel elfordon, transformatorer för solceller och smarta mikrokraftnät.
